Nanoflex 400

Sistema Ibrido PVD-PECVD

Nanoflex 400 è un impianto compatto, progettato per applicazioni sia decorative che tecniche.

La Nanoflex 400 appartiene alla serie di macchine flessibili, ottimizzata per la produzione di oggetti di dimensione piccola e media.

L’alta flessibilità è una delle caratteristiche più importanti. 

Infatti, è possibile installare diverse tecnologie PVD e PECVD, per esempio Arco Catodico, Magnetron Sputtering (in diverse configurazioni, Balanced, Unbalanced, DMS, HiPiMS) e Plasma Beam Source.

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Nanoflex 400

Caratteristiche di sistema

Caratteristiche

Volume utile ᴓ 850mmx400m
Dimensioni camera interna 1030x650mm
Realizzato totalmente in acciaio inox
Temp. Max.: 550° C
Completamente automatico
Software industria 4.0

Sistema di pompaggio

Pompe a secco
Turbo molecolare

Tecnologie

Arco Catodico LDE rettangolare
Arco Catodico RCAE
Magnetron Sputtering
Dual Magnetron Sputtering
HiPIMS
Plasma Beam Source
Altro su richiesta

Controllo

PLC e computer industriale con caratteristiche diagnostiche
Misuratori di portata dei gas

Sistema di sicurezza

Numerosi dispositivi di sicurezza per proteggere gli operatori e le apparecchiature.

Certificazione-TUV-iso9001
UNI EN ISO 9001:2008

Certificazione N°: 50 100 12607

I nostri macchinari per il trattamento in PVD

I nostri macchinari per rivestimenti in PVD assicurano alta produttività, costi bassi e soluzioni innovative (Arco Catodico, Magnetron Sputtering, Plasma Beam Source, ecc.) sulla base dei tuoi bisogno.

 

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