Nanoflex 400

Sistema Ibrido PVD-PECVD

Nanoflex 400 è un impianto compatto, progettato per applicazioni sia decorative che tecniche.

La Nanoflex 400 appartiene alla serie di macchine flessibili, ottimizzata per la produzione di oggetti di dimensione piccola e media.

L’alta flessibilità è una delle caratteristiche più importanti. Infatti, sulla camera, è possibile installare diverse tipologie PVD e PECVD: Arco Catodico, Magnetron Sputtering (in diverse configurazioni, Balanced, Unbalanced, DMS, HiPiMS) e Plasma Beam Source.

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Nanoflex 400

Caratteristiche di sistema

Caratteristiche

Volume utile ᴓ 850mmx400m
Dimensioni camera interna 1030x650mm
Realizzato totalmente in acciaio inox
Temp. Max.: 550° C
Equipaggiato da shields removibili
Software industria 4.0

Sistema di pompaggio

Pompe a secco
Turbo molecolare

Fonti

LDE
RCAE
Magnetron Sputtering
Dual Magnetron Sputtering
HIPIMS
Plasma Beam Source
Altro su richiesta

Controllo

Computer industriale con caratteristiche diagnostiche
Misuratori di portata del gas

Sistema di sicurezza

Numerosi dispositivi di sicurezza per proteggere gli operatori e le apparecchiature.

Certificazione-TUV-iso9001
UNI EN ISO 9001:2008

Certificazione N°: 50 100 12607

I nostri macchinari per il trattamento in PVD

I nostri macchinari per rivestimenti in PVD assicurano alta produttività, costi bassi e soluzioni innovative (Arco Catodico, Magnetron Sputtering, Plasma Beam Source, ecc.) sulla base dei tuoi bisogno.

 

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