Revestimentos PVD: Physical Vapour Deposition

PVD – sigla para Physical Vapor Deposition – é uma tecnologia de revestimento de alto vácuo ambientalmente amigável para deposição de filmes finos em diferentes tipos de materiais básicos na atmosfera de plasma. Durante o processo, dentro de uma câmara de vácuo, metais diferentes – como o titânio, zircónio e cromo – são vaporizados e condensados em seguida, sobre a superfície do produto criando o revestimento pretendido.

O revestimento PVD é recomendado particularmente para produtos de alta qualidade, inovadores e que exigem excelentes características químicas e físicas (como elevada dureza, resistência à abrasão e corrosão) e, ao mesmo tempo, oferecem uma grande variedade de cores. Existem duas famílias de revestimento diferentes: PVD Técnico e PVD decorativo.

PECVD e revestimentos DLC

PECVD – acrônimo para aprimorado Plasma Chemical Deposition – é outra tecnologia ambientalmente amigável para deposição de filmes finos em alto vácuo. No PECVD material de revestimento está contida num moléculas de gás ou de vapor (precursoras), aqueles que são reprimidos pela ação de plasma e tornado o material disponível para a deposição.

Por exemplo, um revestimento clássico com tecnologia PECVD é DLC, Diamond Like Carbon.

Revestimentos DLC

DLC é um revestimento inovador com alta ligação de carbono sp3 (como o diamante), onde o carbono vem da quebra de plasma de um hidrocarboneto gasoso. O revestimento DLC é utilizado em diferentes aplicações para aumentar, por exemplo, a resistência à abrasão. Além disso, outras características importantes são a elevada dureza, baixo coeficiente de atrito e excelente desempenho em ambientes corrosivos. Existem diferentes famílias de revestimentos DLC, que são utilizadas em função da aplicação.

Tecnologia

Todas as máquinas da Protec S.T. são construídas em conformidade com os mais elevados padrões de modernidade e eficiência, garantindo tecnologia inovadora e baixos custos de manutenção ao mesmo tempo.

Protec S.T. tem alcançado conhecimento para muitas aplicações industriais devido à nossa ampla experiência em R & D e na produção de serviços de revestimento.

Graças à elevada flexibilidade de nossa máquina é possível integrar diferentes tecnologias no mesmo equipamento.

  • Cathodic Arc Evaporation (CAE)

    O processo por Arco Catódico é o mais utilizado em revestimento PVD. Neste processo uma descarga de brilho é executada sobre a superfície do metal sólido (target) provocando a evaporação do mesmo. O metal altamente ionizado evaporando se recombina com o gás de processo (na forma de plasma) para criar o depósito de filme fino  nos produtos que rodam dentro da câmara de vácuo. O target CAE pode ser circular ou retangular.

  • Pulverização catódica

    Em MS íons de argônio são acelerados em direção ao metal sólido provocando a injeção (evaporação) por ação mecânica. Também neste caso o o metal evaporado combina-se com o gás de processo (em forma de plasma) para criar um depósito de filme fino nos produtos  que rodam dentro da câmara de vácuo (reactive sputtering). Existem diferentes configurações de “Magnetron Sputtering” possíveis: Balanced Magnetron Sputtering, Dual Magnetron Sputtering (DMS), Dual Pulsed Magnetron Sputtering, Unbalanced Magnetron Sputtering (UBM), RF Magnetron Sputtering, HIPIMS, etc. Dependendo da fonte de energia e da configuração do campo magnético. A geometria dos “Target” podem ser planas, circulares ou em alguns casos também cilíncricas.

  • Fontes de Plasma

    A Fontes de Plasma é usada principalmente para revestimentos PECVD. Graças a esta tecnologia é possível criar um plasma mais denso  e mais energético para obter um revestimento de maior qualidade.
    As vantagens da Fonte de “Plasma Beam Source”:

    • Maior qualidade e uniformidade
    • Temperatura mais baixa
    • Utilização de gás ou vapor inovativo (precursors)
      Revestimento menos tensionado e com possibilidade de espessuras maiores
    • Maior velocidade de revestimento  em compraração com PECVD padrão.