Caratteristiche di sistema

Alta flessibilità

Molte confugurazioni

Interfacciamento con altri sistemi

Caricamento dall’alto

Descrizione

Sistema ibrido PVD-PECVD

Nanoflex 400 è un impianto compatto, progettato per applicazioni sia decorative che tecniche.

Con una camera di dimensioni Ø 1000 x 550 mm e un’altezza di deposizione di 400 mm, ottimizzata la produzione di oggetti di dimensione piccola e media.

Nanoflex 400 appartiene alla serie delle macchine flessibili.

L’alta flessibilità è una delle caratteristiche più importanti. Infatti, sulla camera, è possibile installare diverse tipologie di fonti: Arco Catodico, Magnetron Sputtering (in diverse configurazioni, Balanced, Unbalanced, DMS, HiPiMS) e Plasma Beam Source.

Tutte le tecnologie possono essere fornite direttamente prima dell’installazione o come aggiornamento successivo.

Principali caratteristiche:

  • Rivestimenti decorativi e tecnici
  • Ottimizzazione dei processi
  • Manutenzione semplice
  • Rivestimenti ibridi

Caricamento dall’alto

  • Camera di processo

    • Materiale: Acciaio inossidabile
    • Dimensione della camera: Ø 1000 x 550 mm
    • Tavola rotante: sul fondo camera
    • Caricamento: dall’alto
  • Sistema di pompaggio

    • Pompe a secco
    • Turbo molecolare
  • Sorgenti

    • Arco catodico
    • Magnetron Sputtering
    • Dual Magnetron Sputtering
    • Plasma beam source
    • HIPIMS
  • Controllo

    • Computer industriale con caratteristiche diagnostiche
    • Misuratori di portata del gas
  • Sistema di sicurezza

    Numerosi dispositivi di sicurezza per proteggere gli operatori e le apparecchiature